在電鍍過程中，有機添加劑經歷了多種化學變化(如氧化、還原、裂解、聚合等)，這些變化也會影響電鍍過程。許多分析技術(如分光法，高壓液相法)可以測量添加劑的**濃度，但是對于發生化學變化的添加劑利用這些分析技術是無法準確檢測的，循環伏安剝離電鍍技術(Cyclic Voltammetric Stripping簡稱CVS)則有效的避免了這個問題。

    CVS是基于有機添加劑對電鍍速度的影響(即抑制劑和整平劑降低電鍍速度，光亮劑提高電鍍速度)作為測量信號的一種**技術，通過在鉑金電極表面電鍍和剝離銅來模擬實際電鍍環境，從而真實的定量分析添加劑濃度。CVS分析可提供比傳統哈氏槽法更客觀的信息，哈氏槽法是對電鍍液定性分析，而CVS能夠**的定量分析從而確定電鍍槽中添加劑的需補充量，使電鍍槽中添加劑濃度保持在*佳范圍。

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